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Neues Großgerät für selektives laserinduziertes Ätzen

Neues Großgerät für selektives laserinduziertes Ätzen

© Jacob Stupp
Neue SLE-Anlage im LNQE-Reinraum.

Subtraktiver 3D-Drucker für die Herstellung von Quantenchips für Quantencomputer

Das neue Großgerät ist ein LightFab 3D Printer M mit IR-Laser (1030 nm). Mit ihr können 3D-Strukturen in Glassubstraten mittels selektivem laserinduziertem Ätzen (SLE) erzeugt werden. Der Prozess ist dabei zweistufig: Zuerst wird das Material mit einem Femtosekundenlaser lokal beleuchtet und so dort die Ätzbarkeit des Materials erhöht. In einem zweiten Schritt werden dann die beleuchteten Strukturen mit einer Kaliumhydroxid-Lösung entfernt. Es können verschiedene Materialien, u.a. Quarzglas, Saphir, Borosilikatglas, Aluminosilikatglas, Quarz und Diamant, mit einer Präzision von ca. 1 µm bearbeitet werden. Mit dem System können zusätzlich und in Kombination Laserschweißen, Laserabtrag und 2-Photonen-Polymerisation realisiert werden.

Mit der neue SLE-Anlage werden Quantenchips für die auf Ionenfallen basierten Quantencomputer hergestellt. Sie wird vom Bundesministerium für Bildung und Forschung (BMBF) im Verbundprojekt MIQRO („Skalierbarer Quantencomputer mit Hochfrequenz‐gesteuerten gespeicherten Ionen“) gefördert und beschafft. Sie kommt durch die Arbeitsgruppe von Prof. Dr. Christian Ospelkaus (Institut für Quantenoptik). Die Gerätebeschreibung und Ansprechperson der SLE-Anlage sind auf der LNQE-Website bei der Technologie im LNQE-Forschungsbau aufgeführt.

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